ebeam，ebeam evaporator 是用来做什么的

1，ebeam evaporator 是用来做什么的

第一部分系制作螺旋微电极；首先以电子束蒸镀机(E-beam evaporator)于毛细玻璃管上蒸镀钛、金导电种子层(seeding layer)，并搭配旋转曝光(rolling exposure)的技术与后续的黄光微影制程，成型黄金螺...

ebeam evaporator 是用来做什么的

2，听说过爱索汽车膜的吗是什么公司的产品质量如何

现在品牌比较乱，因为厂家出厂后都是经销商自己挂品牌，进口的比国产技术好些，我们公司做的就是韩国的产品自己的品牌。

你说的那种不是V-KOOL的，他是靠着V-KOOL的牌子来搞虚头的，是真的，采用最先进的E-BEAM技术，比磁控技术还要先进，性价比很高！100%真膜，但是现在市面上你不一定买得到，因为他们刚进入中国市场，是美国的，我敢用人格担保美国优膜，可能相近，但绝对不一样。不相信看看他们的LOGOL都绝对不是和V-KOOL 的一模一样再看看别人怎么说的。

美国优膜，我敢用人格担保，是真的，但是现在市面上你不一定买得到，因为他们刚进入中国市场，是美国的，采用最先进的E-BEAM技术，比磁控技术还要先进，性价比很高！100%真膜。你说的那种不是V-KOOL的，他是靠着V-KOOL的牌子来搞虚头的。不相信看看他们的LOGOL都绝对不是和V-KOOL 的一模一样，可能相近，但绝对不一样！你查好了！

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3，透明导电 ITO的作用

额

ITO溶液【产品介绍】 ITO（Indium Tin Oxides）作为纳米铟锡金属氧化物，具有很好的导电性和透明性，可以切断对人体有害的电子辐射，紫外线及远红外线。因此，喷涂在玻璃，塑料及电子显示屏上后，在增强导电性和透明性的同时切断对人体有害的电子辐射及紫外、红外。【产品特点】？化学特性（Chemical） ⑴Element Composition In2O3+SnO2:In2O3:90.0(±5)wt.% SnO2:10.0(±5)wt.% ⑵纯度（Purity）:＞99.99% Elements Al As Ca Cd Cu Fe In Ni Si Sn Ti Zn Analysis(ppm) 3.49 3.72 13.80 4.24 1.74 0.74 745651.31 1.75 5.37 76867.66 0.38 1.49 ？物理特征 ⑴表面颜色 Blue ⑵密度（Density）随分散剂的不同密度也不同理论密度：7.16g/cm3 区分密度(g/cm3) 涂层方法低密度 4.3 0.5 E-Beam 中密度 5.3 0.5 Evaporation 高密度 ≥7.0 E-beam, Sputtering ⑶粒径一次粒径：20-30nm 二次粒径：50-60nm ⑷导电性＜1-2×10-4 Ω.cm 透光性：任意调 ⑸比表面积 300～350㎡/g 【应用范围】 1电子显示设备等防电子辐射。 2.各种塑料薄膜。 3.其他。

透明导电 ITO的作用

4，ebeam evaporation是什么意思

e-beam evaporation的意思电子束蒸发如果您有什么疑问和不解之处，欢迎追问我！！！如果您认可我的答案，请采纳。您的采纳，是我答题的动力，O(∩_∩)O谢谢

“ce”标志是一种安全认证标志，被视为制造商打开并进入欧洲市场的护照。ce代表欧洲统一（conformite europeenne）。凡是贴有“ce”标志的产品就可在欧盟各成员国内销售，无须符合每个成员国的要求，从而实现了商品在欧盟成员国范围内的自由流通。ce是法语communate europeia的缩写，英文意思为european conformity，即欧洲共同体，事实上，ce还是欧共体许多国家语种中的"欧共体"这一词组的缩写，原来用英语词组european community 缩写为ec，后因欧共体在法文是communate europeia，意大利文为comunita europea，葡萄牙文为comunidade europeia，西班牙文为comunidade europe等，故改ec为ce。在欧盟市场“ce”标志属强制性认证标志，不论是欧盟内部企业生产的产品，还是其他国家生产的产品，要想在欧盟市场上自由流通，就必须加贴“ce”标志，以表明产品符合欧盟《技术协调与标准化新方法》指令的基本要求。这是欧盟法律对产品提出的一种强制性要求。ce认证是构成欧洲指令核心的"主要要求"，即只限于产品不危及人类、动物和货品的安全方面的基本安全要求，而不是一般质量要求，协调指令只规定主要要求，一般指令要求是标准的任务。因此准确的含义是：ce标志是安全合格标志而非质量合格标志。

5，光刻中软接触硬接触真空接触分别是什么意思

1.胶印（Lithography），又名柯式印刷，是广泛使用的印刷技术，是先把上墨的图像转移到橡皮布上，然后再转移到印刷材料表面的一种印刷方法。胶印是平版印刷的一种，也是基于水墨相斥的原理的，胶印技术可以避免印刷表面的水与油墨一起传递到印刷材料的表面上胶印的优点如下：图像质量高——比凸版印刷更加清晰、明锐，因为橡皮布能够与印刷材料表面的纹理很好地接触。除了平滑的纸张外，还可以使用范围广泛的印刷材料，例如木头、织物、金属、皮革、较粗糙的纸张等。印版的制作快速、简便。印版耐印率比直接平版印刷更高——因为印版和印刷表面之间没有直接接触。lithography是一种平板印刷技术，在平面光波回路的制作中一直发挥着重要的作用。具体过程如下：　　首先在二氧化硅为主要成分的芯层材料上面，淀积一层光刻胶；　　使用掩模版对光刻胶曝光固化，并在光刻胶层上形成固化的与掩模板完全对应的几何图形；　　对光刻胶上图形显影，与掩模对应的光刻胶图形可以使芯层材料抵抗刻蚀过程；　　使用等离子交互技术，将二氧化硅刻蚀成与光刻胶图形对应的芯层形状；　　光刻胶层剥离；　　最后在已经形成的芯层图形上面淀积上包层。　　使用lithography方法几乎可以在芯层材料上形成各种几何图形，图形的精细度取决于曝光系统的光源波长，现有UV、DUV、e-beam、x-ray、nano-imprint几种曝光方式。2 .软接触（soft contact）Soft Contact轻触（光化学、干膜、曝光及显影）& Hard Contact 光阻膜于曝光时，须将底片紧密压贴在干膜或已硬化之湿膜表面，称为 Hard Contact。若改采平行光曝光设备时则可不必紧压，称为 Soft Contact。此“轻触” 有别于高度平行光自动连线之非接触(Off Contact)式驾空曝光。 4.真空接触晒像（vacuum contact）一种在印制板晒制图形时将曝光框抽真空，使底片与印制板在大气压下均匀地接触，从而获得清晰图形的制图方法。

接触式曝光：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触：　　1.软接触就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；　　2.硬接触是将基片通过一个气压（氮气），往上顶，使之与掩膜接触；　　3.真空接触是在掩膜和基片中间抽气，使之更加好的贴合接触的越紧密（软<硬<真空），分辨率越高，当然接触的越紧密，掩膜和材料的损伤就越大。

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